- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
ELPHY 전자선 리소그래피 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Raith |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-11-07 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ELPHY E-Beam Lithography System는 전자현미경과 연계하여 전자현미경으로부터 방출되는 전자빔을 조절하여 원하는 위치에 나노크기의 패턴을 형성하는데 절대적으로 필요한 과학장비로 전자현미경의 전자빔을 컨트롤하여 나노크기의 패턴형성 할 수 있다. 본 lithography system은 SEM에 부착되어 운용되며 SEM의 electron beam의 크기에 비례하여 형성되는 패턴의 크기가 달라진다. 기본적으로 PMMA로 불리우는 고분자물질이 코팅된 기판에 일정시간 특정 모양으로 전자빔을 조사하고 develop공정을 수행하면 원하는 영영에 원하는 패턴을 얻을 수 있다. 사용 예로는 나노소자제작을 위한 전극형성 그래핀 패턴 등의 나노소자의 전기적 분석을 위한 전극형성 공정에 사용된다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201203/20120323151044.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 전북분원 연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-03-157397 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0031664 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |