| 보유기관명 |
한국전기연구원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C208 |
| 표준분류명 |
생산 |
| 시설장비 설명 |
다양한 종류의 어플리케이션을 위해 매우 효과적이며 효율적인 표면처리 장비입니다. 블로운 이온 방전(concentrated blown-ion discharge)을 발생시키는데 이것은 재질 표면을 이온의 고속 방전으로 충격을 가합니다. 양극의 이온 충격은 마이크로 에칭(micros-etching)혹은 세정 효과를 일으키는데 이 효과는 물체 표면에서부터 유기물 및 무기물 오염물질을 제거할 수 있습니다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201704/20170413104250765.jpg |
| 장비위치주소 |
한국전기연구원 제5연구동 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2017-04-237102 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201712191632 |
| 첨부파일 |
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