| 보유기관명 |
광주과학기술원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C519 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
Resist의 구조와 나노미터 범위의 표면 패터닝은 나노과학과 나노기술 등의 많은 곳에 적용가능한 핵심 요건이다. Nano Imprint Lithography(NIL)은 Nano scale pattern을 만들기 위해 가장 최적화된 장비이다. NIL는 빠른 처리량과 높은 해상도를 가진 패터닝을 제공하는 차세대 나노제조를 위한 간단한 기술이며 마이크로전자장치 광학 의학 생물학적 분야에 적용 가능하다. NIL로 표면에 패턴을 형성하기 위해 구조화된 몰드(mold)는 변형할 수 있는 레지스트 속으로 기게적으로 압축되는데 이것은 열에 의해 경화되는 thermal resin(Thermoplastic thermoset)과 자외선에 의해 경화되는 UV resin이 있으며 본 장비는 UV와 Thermal 타입 두 가지 모두를 사용할 수 있는 장비이다.
NIL로 표면에 패턴을 형성하기 위해 구조화된 몰드(mold)는 변형할 수 있는 레지스트 속으로 기게적으로 압축되는데 이것은 열에 의해 경화되는 thermal resin(Thermoplastic thermoset)과 자외선에 의해 경화되는 UV resin이 있으며 본 장비는 UV와 Thermal 타입 두 가지 모두를 사용할 수 있는 장비이다. |
| 장비이미지코드 |
http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201310/.thumb/20131008104021765.jpg |
| 장비위치주소 |
광주 북구 오룡동 광주과학기술원 1 광주과학기술원 신재생에너지연구소 1층 101 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2012-02-154654 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0031134 |
| 첨부파일 |
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