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장비 및 시설 기본정보
자기유도결합 플라즈마 건식 식각기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Oxford Instruments |
| 모델명 | Plasma Lab100 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-01-14 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 마이크로나노팹센터 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 낮은 전압으로 Plasma를 발생시켜 수 마이크로에서 수십 나노 크기의 패턴을 에칭하는 장비로서 고밀도 Plasma인 ICP를 이용하여 화합물반도체 Etch, Metal Etch, Oxide Etch,AL2O3 Etch등 다양한 분야에 적용할 수 있으며, 최근에는 Poly Silicon 및 Metal Etch에 많이 적용되고 있는 장비이다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201302/20130219115813630.JPG |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 청정연구동(L6) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-175945 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KIST_Fab-00005 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |