Au/AuSn도금장비
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 에스이테크 |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2005-06-22 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국광기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C520 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | LD/LED 웨이퍼의 전극형성을 위한 장비로 단기간에 Au를 높은 증착율로증착할수있다. 단 순도는 높지 않음. CVD 및 PVD를 이용한 전극형성은 높은 단가 및 오랜공정시간의 단점이 있어서이 방법을 이용함ㅇ적용가능 기판크기 : 2" 4" wafer 조각 ㅇ도금 Bath - Au 도금 (2ea) : P-Bonding-Pad용 FCB-metal용 등 - AuSn 도금 (1ea) : SiOB solder bump용 등 ㅇ도금 조건 - 도금 균일도 : 두께의 3% 이내 - 도금 가능 두께 : 1㎛~501㎛ - 도금 속도 : 0.11㎛/min 이상 - 도금액 온도 제어 범위 : 실온~70℃ ㅇQDR Bath - Shower N2 bubble Over Flow Quick Drain 기능 - 수동 및 자동 모드 ㅇD.I. water gun N2 gun ㅇGoose Neck : D.I. Water 세정 Foot 스위치후막 전극 및 solder bump 도금 장비 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125152846.jpg |
장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 wet room |
NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-126439 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019872 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |