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장비 및 시설 기본정보
플라즈마 애셔
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Oxford |
| 모델명 | Plasma System 100 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-01-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ㅇ적용가능 기판크기 : 10mm×10mm 조각 ～ 6인치 wafer ㅇAsh 대상 : Residual photoresist on wafer ㅇAsh 능력 : 1 wafer/Batch ㅇPlasma power : ～ 3kW ㅇHelium cool down to wafer ㅇ적용가능 Gas : Ar O2 N2O기판 잔류 포토리지스트 제거 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110124154152.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 Dry |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-126376 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019841 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |