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장비 및 시설 기본정보
마스크 얼라이너
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Karl Suss |
| 모델명 | MA6 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-06-05 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | Mask aligner는 photolithgraph 공정에서 Spin coater를 이용하여 패턴이 형성된 마스크를 substrate에 정밀 정렬 후 노광하는 장비로 반도체형 방사선 이미지 센서에서 픽셀 혹은 스트립 전극을 형성하기 위한 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201404/20140403144752236.JPG |
| 장비위치주소 | 한국원자력연구원 첨단방사선연구소 싸이클로트론동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-04-186619 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kaeri-00073 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |