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장비 및 시설 기본정보
이불화제논 식각장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Xactix |
| 모델명 | XETECH E1 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-02-28 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 포항테크노파크 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 : Si etch rate: 0.4㎛/min (4" wafer with 10% open area) - Pulse & Continuous Mode -Microscope & Touch Screen Control활용분야 : 실리콘 및 실리콘웨이퍼 건식식각 반도체MEMS Bio-MEMS 나노 기술연구 및 제품개발 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/itep200710/.thumb/1157466507_1.jpg |
| 장비위치주소 | 경상북도 포항시 남구 지곡동 601번지 포항테크노파크 포항테크노파크 제2벤처동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-000570 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0012566 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |