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장비 및 시설 기본정보
가스 스크러버 (P-4용)
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 뉴텍웨이브 |
| 모델명 | NTW1200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-10-02 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C609 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 이 장비는 진공장비의 잔류가스를 burn wet 공정으로 처리하여 배출하는 설비이다. 그리고 별도의 장비로 사용은 불가하고 장비의 부속 장비다. 1. Operating conditions and performance Total gas treatment volume 1200 SLM (H2 : 100 LPM NH3 : 100 LPM) Heating chamber temperature 750~900℃ 2. Electrical data Electrical power 14 KW Voltage 208∼220 VAC Phase 3 Phase Rating current(full load) 35 A Running current 28 A Heater rating power consumption 12 KW |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125180505.jpg |
| 장비위치주소 | 광주광역시 북구 첨단4길 5(월출동) 시험생산1동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-136442 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0024097 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |