아크 플라즈마 증착원
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Ulvac |
모델명 | ARL-300 |
장비사양 | |
취득일자 | 2010-12-10 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C506 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 본 장치는 아크 플라즈마 증착원 (동축형 진공 아크 증착원)을 이용하여 금속 이온을 진공중에서 발생시켜 분체위에 나노 입자를 증착하는 장치이다. 펄스 운전으로 증착하므로 증착량(콘덴서용량: 방전전압)을 독립제어하여 입자의 입경을 제어할 수 있으며 펄스로 나노입자의밀도의 제어도 가능하다. 증착하는 이온의 에너지가 높고 분체표면과 나노 입자의 밀착성이 양호하기 때문에 고온환경 하에서도 잘 응집이 안되는 특성이 있다. 분말은 전용 용기에 수납해서 상기아크 플라즈마 증착원으로 증착하면 표면에 나노입자가 분산되어서 부착되며 용기와 용기용 스테이지를 떼어내고 회전 샤프트의 샤프트 앞단을 기판 스테이지로 교체하는 것에 의해 기판이나 필름 등에 나노 입자를 증착할 수 있다. ·아크 플라즈마 증착원:방전전압 : 70V~400V 콘덴서 용량 : 1800uF 운전주파수 : 1~5Hz 타겟재질 : 철 백금 동등 여러 메탈재질 |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201101/20110106095800.gif |
장비위치주소 | 한국과학기술연구원 연구동(L0) |
NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-131464 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0021197 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |