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OLED증착시스템

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보유기관명	한국화학연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명	구성 : - 진공 챔버 1 - Organic source 4개 X 2 (total source 8 개) metal source 2개 - O2 plasma treatment chamber 1개 (TCP plasma) - glove box - transfer Ass'y : O2 plasma chamber -> oranics/metal chamber 사양 : - 진공도 : 7 X 10-7 Torr - substrate size : 40 mm X 32 mm (4개 장착 가능) glass thickness : 0.55 ~ 1.1 t - substrate rotate : 0~20 rpm - RF generator : 300W gas - O2 (MFC control) - TCP vhamber pump : torbo pump (ATP400 400 L/sec) - Main chamber pump : Cryo pump (A200 2000 L/sec) - Organic cell : DOV cell 3~4 cc 8 set - Metal source : W-boat (1ea 100A) BN-boat (1ea 300A) - Deposition Control : single head type 3ea CRTM-9000 (ULVAC) - glove box : 800 X 600 X 600 Moisture & Oxygen control (1 ppm) - PLC & Touch Screen : Manual & Auto control type) - System utilities : power -200V 60Hz 50 kW Cooling wate - 40 L/min Air - 6 kg/cm2 Gas - N2 O2
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110218101341.jpg
장비위치주소	대전 유성구 장동 100 한국화학연구원 1연구동 1층 102
NFEC 등록번호	NFEC-2011-02-143237
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0028023
첨부파일

기업조회