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장비 및 시설 기본정보
입도 분석기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Otsuka Electronics |
| 모델명 | ELS-Z |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-11-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | (주)프로텍스코리아 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B701 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 묽은용액으로부터 진한용액까지 폭넓은 농도 범위로의 고속·고정밀의 입자 지름·입자 지름 분포(입경·입경 분포) 측정이 가능합니다. 미립자 특유의 분산·응집 과정을 모니터 하는 기능 등 연구·품질관리의 폭넓은 용도로 사용 가능합니다. 자동샘플을 사용하면 50개까지 시료를 자동 연속 측정 가능 묽은용액으로부터 진한용액까지 폭넓은 농도 범위로의 고속·고정밀의 입자 지름·입자 지름 분포(입경·입경 분포) 측정이 가능 미립자 특유의 분산·응집 과정을 모니터 하는 기능 등 연구·품질관리의 폭넓은 용도로 사용 가능 신개발의 측정 프로브에 의해 진한 용액으로의 고정밀의 입자 지름 측정에 대응 샘플온조 초음파 세정 등 필요한 기능을 모두 내장한 A3사이즈의 컴팩트 설계 입자지름 3nm ~ 5000nm 1nm ~ 5000nm( 고감도 사양) 쿱란트 평균 입자 지금 히스토그램 평균 입자 지름(D50) 분포해석 CONTIN 법 MARQUARDT 법 NNLS 법 CUMULANT 법 대응 농도 범위 (표준 라텍스 204nm의 경우) 0.001 ~10 % 농후계 프로브(표준) 0.01 ~ 10 % 희박계 프로브(옵션) 0.001 ~ 0.01% |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110107172932.jpg |
| 장비위치주소 | 전북 완주군 봉동읍 용암리 831 전주3공단 프로텍스코리아 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-131702 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0021332 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |