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장비 및 시설 기본정보
박막 두께 및 미세형상 측정기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Kosaka |
| 모델명 | ET200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-09-09 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | F202 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 1. Measuring range - Z axis : 600㎛ - X axis : 100mm(Max) 2. Z axis resolution : 0.1nm 3. Sample stage moving : 100(X) x 25(Y)mm 4. Measuring magnification : 50x ~ 2000000x 5. Analysis item : Step height Roughness Pitch- 코팅층의 두께를 측정하기 위한 최적의 시스템 구성임. - CVD 및 PVD 코팅층 및 표면 거칠기를 측정에 신속하고 정확히 파악하기 위함 - 공인된 reference device를 사용함으로써 측정의 정확성/신뢰성을 얻을 수 있음. - 정밀 가공 부품의 표면 거칠기도 측정할 수 있음 - 최대 100mm까지 스캔하여 정밀하고 신뢰성있는 측정을 하여 할 수 있음. - 뛰어난 정밀도 및 진직도를 갖추고 있어 측정에 신뢰성 및 정확성을 얻을 수 있음. - 고기능성 세라믹 및 금속재료의 개발에 필요한 두께 및 미세형상의 정확한 측정을 위함. - 탄소 소자를 이용한 차세대 디스플레이 태양전지 반도체 부품의 박막 두께를 신속하고 정확하게 측정하기 위함. - 본체의 구조가 화강암으로 이루어져 별도의 방진 시스템이 필요 없음. - 화강암 구조는 장기간 사용 후에도 정밀도에 변함이 없음. - 그리하여 박막 두께 및 형상의 측정에 용이 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201109/.thumb/20110928142428.jpg |
| 장비위치주소 | 전북 완주군 봉동읍 은하리 산101번지 전북분원 한국과학기술연구원 전북분원 연구동 2층 R1263 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-09-148946 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0030072 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |