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장비 및 시설 기본정보
유도결합플라즈마식각장치2
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Unaxis |
| 모델명 | SLR-770 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-07-22 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ㅇ적용가능 기판크기 : 2인치 ～ 4인치 ㅇ공정 가스 : BCl3 HBr CH4 H2 He Ar N2 O2 ㅇInP Anisotropic 식각 - Etch rate : > 1.2㎛/min - Sidewall angle : > 85° - Selectivity : > 10:1 (PR mask) > 15:1(SiO2) ㅇICP Power - 2kW RF supply - Auto Impedance matching unit Auto DC bias control ㅇRIE Power - Dual range 60/600W RF generator - Auto Impedance matching unit ㅇLoad Lock Chamber systemInP 식각 전용 장비 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125153101.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 Dry |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-126406 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019854 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |