| 보유기관명 |
한국과학기술연구원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
F201 |
| 표준분류명 |
계측 |
| 시설장비 설명 |
표면의 형상을 측정할 수 있는 장비로서 박막의 두께나 거칠기를 정량화하는데에 사용됩니다. 정밀한 힘이 가해지는 탐침을 이용하여 표면을 직접 긁는 방식으로 박막의 표면을 측정하므로 직접적인 측량방법이 됩니다.WAFER 표면 위의 단 차가 있는 박막의 두께(수Å 이상) 및 Step profile을 측정하기 위하여 개발한 장비 탐침(stylus)이 WAFER 표면을 긁고(scan) 지나감으로써 표면 단자의 변화로 발생하는 압력을 감지하여 그 단차의 두께를 측정하는 장비이다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160921142106_20071220000000032708 NFEC-2007-03-053023.jpg |
| 장비위치주소 |
한국과학기술연구원 연구동(L4) |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2007-03-053023 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0008106 |
| 첨부파일 |
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