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장비 및 시설 기본정보
자외선축소투영노광시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Nikon |
| 모델명 | Nikon i11D |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-09-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | PR 코팅된 웨이퍼에 365nm 빛의 파장을 가진 광원을 이용하여 감광액이 도포된 반도체용 웨이퍼나 유기기판 위에 회로가 그려진 포토마스크를 올려 놓고 수은 램프 UV를 조사함으로 5:1 축소노광하여 미세패턴을 얻을수 있는 Optical Lithography임 |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201902/20190211114133267.jpg |
| 장비위치주소 | 나노종합기술원 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2019-01-250422 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201901246834 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |