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장비 및 시설 기본정보
플라즈마 장치(증착/식각)
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Plasma Therm |
| 모델명 | 790S |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1998-10-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C603 |
| 표준분류명 | 기타 |
| 시설장비 설명 | 100W이하,의 낮은 Power, 챔버온도 250도에서 플라즈막를 형성하여 질화막과 산화막, 폴리실리콘 박막을 증착하는 챔버와 플라즈마를 이용하여 박막을 식각하는 챔버가 Dual로 구성된 장비 |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images// |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2019-01-251427 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201901245364 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |