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장비 및 시설 기본정보
실리콘 나노 양자점 박막 제조용 플라즈마 반응시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-09-25 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국에너지기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C503 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 실리콘 박막 태양전지의 광 흡수층은 광학적 밴드겝이 크고 빛에 의한 열화현상으로 인해 효율이 낮은 단점이 있다. 이를 극복하기 위해 amorphous intrinsic si layer에 입자 크기가 제어된 crystal si nano particle을 삽입하고 선택적인 광 흡수를 유도하며 열화 현상을 해결하여 변환효율을 향상할 수 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201304/20130410102237324.JPG |
| 장비위치주소 | 한국에너지기술연구원 자연과학관102동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-04-177553 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0035856 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |