| 보유기관명 |
중앙대학교 산학협력단 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C503 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
진공 증착기란 전기가열기 또는 높은 에너지의 빔을 이용하여 물질을 녹이고 그것의 증기압을 유용한 범위로 높일수 있는 장치를 말한다.
진공 증착은 고진공 상태에서 이루어지며 증발하여 가스형태로 이루어진 물질이 반응기안의 다른 가스원자와의 반응없이 substrate(기판) 에 도달하여 회수가 가능하다. 그리고 진공 반응기 속 잔류 가스안의 불순물을 제거한다. substrate(기판)에는 결과물이 박막형태로 쌓이며 (multi-layer) 이러한 박막의 분석을 통해 여러 가지 특성 및 물질의 구성및 형태 등을 알 수 있다.구성은 진공 챔버와 그안의 하단에 구비되어 증착재료를 수용하고 그 외부에 가열장치가 구비되는 증착원과 증착원의 위쪽에 구비되어 증착원으로부터 기화 또는 승화된 증착 재료가 증착되는 피처리기판 (substrate) 그리고 헤드의 두께를 측정하는 크리스탈 센서 진공펌프 등으로 구성된다. 이러한 장치들은 화합물 또는 산화물 상태의 금속화합물 등을 환원시켜 순수 금속을 증착시켜 회수하는 방법으로 이용된다.위 장비는 균일한 두께의 박막형성이 가능하며 온도조절이 용이하다. 그리고 10-7 torr 까지의 고진공 상태가 가능하고 substrate 의 이동 (산화및 수증기와의 반응 방지) 이 용이하다. 따라서 multi-layer 의 박막을 얻거나 co-deposition 등의 합금 도금 등에 이용할 수 있다. |
| 장비이미지코드 |
http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201211/.thumb/20121113123854.JPG |
| 장비위치주소 |
서울 동작구 흑석동 중앙대학교 221번지 중앙대학교 봅스트홀 1층 111 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2013-01-174411 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035209 |
| 첨부파일 |
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