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장비 및 시설 기본정보

XRD용 고온 Chamber (HTK1200N)

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 Anton Paar
모델명 HTK1200N
장비사양
취득일자 2013-05-15
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 B520
표준분류명
시설장비 설명 온도를 올리면서 시료의 상변화를 측정하기 위해 필요한 분말x선 회절장치의 부분품으로 분말형태의 시료를 측정할 수 있고 시료 양이 적은 경우 capillary tube를 장착해 측정하는 부속품이 포함되어 있음. 공기 불활성 및 환원성 기체를 사용할 수 있으나 capillary tube는 공기 중에서만 사용 가능함.상온-max 1000C
시료 회전 기능(180도 반복회전)
고온 chamber 시료 홀더 capillary tube 홀더. 온도제어장치 반응가스 제어장치 진공배기장치
측정 각도 : 5 - 110 (2 theta)무지래료 분말의 온도에 따른 상변화
고상/기상 반응 in-situ 측정
분말재료의 열팽창계수 측정
분말 및 벌크 시료의 산화반응 측정
기타 분말 및 벌크 형태 재료의 온도에 따른 상변화 거동 분석
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201311/.thumb/2013111915134264.JPG
장비위치주소 서울 성북구 월곡2동 과학기술연구원 39-1번지 한국과학기술연구원 연구동(L0) 4층
NFEC 등록번호 NFEC-2013-11-183987
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0039730
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)