XRD용 고온 Chamber (HTK1200N)
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Anton Paar |
모델명 | HTK1200N |
장비사양 | |
취득일자 | 2013-05-15 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | B520 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 온도를 올리면서 시료의 상변화를 측정하기 위해 필요한 분말x선 회절장치의 부분품으로 분말형태의 시료를 측정할 수 있고 시료 양이 적은 경우 capillary tube를 장착해 측정하는 부속품이 포함되어 있음. 공기 불활성 및 환원성 기체를 사용할 수 있으나 capillary tube는 공기 중에서만 사용 가능함.상온-max 1000C 시료 회전 기능(180도 반복회전) 고온 chamber 시료 홀더 capillary tube 홀더. 온도제어장치 반응가스 제어장치 진공배기장치 측정 각도 : 5 - 110 (2 theta)무지래료 분말의 온도에 따른 상변화 고상/기상 반응 in-situ 측정 분말재료의 열팽창계수 측정 분말 및 벌크 시료의 산화반응 측정 기타 분말 및 벌크 형태 재료의 온도에 따른 상변화 거동 분석 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201311/.thumb/2013111915134264.JPG |
장비위치주소 | 서울 성북구 월곡2동 과학기술연구원 39-1번지 한국과학기술연구원 연구동(L0) 4층 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2013-11-183987 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0039730 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |