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장비 및 시설 기본정보
화학기상증착 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)씨엔원 |
| 모델명 | Atomic Premium |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-05-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국화학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C509 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | □ 원리 및 특징 - Pulsed source Chemical vapor deposition은 반도체 제조 공정 중 화학적으로 달라붙는 단원자층의 현상을 이용한 나노 박막 증착 기술. 웨이퍼 표면에서 분자의 흡착과 치환을 번갈아 진행함으로 원자층 두께의 초미세 층간(layer-by-layer) 증착이 가능하고, 산화물과 금속 박막을 최대한 얇게 쌓을 수 있으며, 가스의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼 표면에 증착시키는 일반 화학 기상 증착(CVD)보다 낮은 온도(500도 이하)에서 막질을 형성할 수 있는 장점이 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161018141856_20110617000000110094 NFEC-2011-06-145802.jpg |
| 장비위치주소 | 한국화학연구원 1연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-06-145802 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0057822 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |