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장비 및 시설 기본정보
전계방사형 주사전자현미경
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Philips |
| 모델명 | XL 30 SFEG |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1999-06-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A206 |
| 표준분류명 | 기타 |
| 시설장비 설명 | 주사전자현미경은 전자를 고전압을 가해 가속시키고 전자기렌즈를 이용하여 집속시킨 전자빔을 시료 표면에 주사시키면 표면 요철에 따라 서로 다른 양의 이차전자가 발생되고 동시에 상 재생측에서는 음극선 관내의 전자빔을 형광면에 주사시켜 상의 형성이 이루어진다. 비교적 시료준비가 쉬우며 전자빔이나 진공 중에서 변형되지 않는 금속 광물 반도체 고분자 등의 표면 혹은 파단면을 관찰 할 수 있다. 초점심도가 상당히 깊어서 파단면과 같은 복잡한 구조나 결정 외형과 같은 입체적인 형체를 일정한 시야상에서 광학현미경과 투과전자현미경의 중간 정도의 배율인 수십 배에서 수십 만 배까지 연속적으로 변화시켜서 관찰 할 수 있고 수십 ？까지 분해가 가능하며 원자마다 특정한 에너지 값을 갖는 특성 X-선을 이용하여 정성 정량 분석을 할 수 있고 후방산란전자를 이용하여 시료의 조성 차이에 따른 화상 재료의 결정방위 등의 정보를 알 수 있는 EBSP분석을 할 수 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160830143057_200702075227 NFEC-2006-04-028920.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술원 KI빌딩 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2006-04-028920 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0005129 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |