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스퍼터링시스템

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보유기관명	한국전자통신연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C506
표준분류명
시설장비 설명	스퍼터(Sputter)는 스퍼터링 방식으로 박막을 제조하는 장치로 진공 상태에서 아르곤 가스를 소량 주입하고 한편에는 재료 물질인 원반형 타겟을 두고 반대 쪽에는 기판을 두고 둘 사이에 전압을 인가하되 직류(DC)와 라디오 주파수(rf) 중간주파수(mf)의 방식으로 한다. 전압이 인가되면 아르곤이 이온화되고 전압에 의해 가속되며 타겟에 부딪히게 된다. 이때 타겟의 재료가 튀어나와서 반대쪽에 있는 기판에 붙어서 성장하게 되어 만들어진 것을 박막이라한다. 타겟의 이면에 특수한 자석을 붙여서 효율을 향상시킨다. 불활성 기체로 아르곤 이외에 크세논이 사용되기도 한다. 산소 질소등의 반응성 기체를 첨가하여 반응성 스퍼터링을 하여 산화물과 질화물 박막을 제조한다. 산화물 등의 스퍼터링에 활용한다
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201107/20110705125235.JPG
장비위치주소	한국전자통신연구원 2동
NFEC 등록번호	NFEC-2011-07-146056
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0029400
첨부파일

기업조회