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장비 및 시설 기본정보
유도결합플라즈마분광계
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Perkin Elmer |
| 모델명 | OPTIMA 8300 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-08-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | (재)산청한방약초연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B511 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 신개념의 RF Generator인 FPP (Flat Plate Plasma)의 탑재로 타사와 기존 모델에 비해 알곤 가스의 소모량이 1/2로 줄게 되어 장시간 사용 시 많은 경제적 이익을 창출할 수 있는 다원소(파장) 동시분석형 모델입니다. - FPP의 탑재로 알곤 가스 소모량이 기존에 비해 50% 절감 - 고효율의 e-NebTM 시료도입부(옵션)의 장착으로 4~5배 증가된 감도 - Camera를 이용한 실시간 플라즈마 관찰로 시료도입부 및 플라즈마 상태 확인 - 빠른 scanning 속도를 제공하는 Echelle 광학 Dual Monochromator - UDA 프로세서가 탑재된 고 집적 Dual SCD 검출기 - UDA 프로세서: 1개 원소의 단일 파장의 측정만으로 모든 원소의 전 파장 측정 가능 - 더욱 증가된 효율을 가진 40Mhz Solid state free running RF 발생기 (영구적) - Dual 관측 시스템과 공기를 이용한 Axial cutting 시스템을 통한 넓은 농도범위 측정 (영구적) - 컴퓨터에 의한 가스 유량 조절과 관측 높이 조정으로 손쉬운 최적화 - 사용자 편의에 맞춰진 플러그인 시료 도입부의 디자인으로 다양한 응용분야의 적용이 가능 - DWS(Dynamic wavelength stabilization): 네온 스펙트럼에 의한 실시간 파장 검-교정 - 배우기 쉬운 WinLab32 소프트웨어에 의한 분석의 신뢰성 실현 (Windows XP Pro 7 설치) - 특허 등록된 MSF 스펙트럼 간섭 보정과 Flow Injection method의 활용 - 실시간 연속 그래프 화면과 3차원 Echellogram을 통한 분석법의 최적화 - EPA 자동내부표준물 편차보정과 Weighted linear std. 적용으로 분석 정확도 보증 - 보다 가벼워지고 작아진 디자인 설계1. RF Generator 1) RF Frequency ; 40 MHz 2) Type ; Free running 3) Coil cooling ; Air 4) RF Power ; 750 - 1500 Watts or more wider computer-controlled in 1 watt increments 2. Sample introduction system 1) Nebulizer : Cross-flow with HF resistant materials. 2) Chemical resistance : Solutions of HCL HNO3 H2So4 H3PO4 HF NaOH and NaCl 3) Spray Chamber : Ryton for HF Resistance and general purpose 4) Torch : Demountable design with 2.0mm I.d. injector for HF resistance 5) Peristaltic Pump : 3 Channels 3. Argon flow system 1) Plasma Argon flow ; Computer controlled 0 - 20 L/min in 1 L/min increments 2) Aux Argon flow ; Computer controlled 0 - 2 L/min in 0.1 L/min increments 3) Nebulizer Argon flow ; Computer controlled with mass flow controller 0 - 2 L/min in 0.01 L/min increments 4. Optical system 1) Type ; Echelle Cross Dispersion (monochromator and polychromator) type. ？ Echelle Cross Dispersion Type - Sequential measurement . Wavelength range ; 167 - 782nm . Measured Resolution ; Better than 0.006nm at 200nm not pixel resolution . UV range determination ; Without prism for high UV throughput . Grating size ; 80 x 160mm . Internal Standard - Simultaneous measurement . Analytical channels ; Simultaneous measurement of more than 235 channels . Measured Resolution ; Better than 0.006nm at 200nm not pixel resolution or Less than 7pm at 200nm at pixel resolution . Grating ; 3600 gr/mm or 52.91grooves/mm ruled grating . Wavelength range ; 167 - 700nm or wider . Analytical channels ; Most sensitive wavelength (more than 38 chennels) (Ag Al As Au B Ba Be Bi Cd Co Cr Cu Fe Ga Ge Hg In Mg Mn Ni P Pb Pd Pt S이온에너지를 증가시키지 않고도 이온밀도를 높이고 이온입자들에 방향성을 가할 수 있는 새로운 플라즈마 기술로 한약재의 무기 금속 원소의 정성 분석 및 ppm 혹은 ppb 농도의 정량 분석에 사용된다 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201304/.thumb/20130422152232787.jpg |
| 장비위치주소 | 경남 산청군 금서면 매촌리 266 (재)산청한방약초연구소 연구동 2층 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-04-178308 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0037969 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |