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장비 및 시설 기본정보
고출력 전자빔 발생 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 브이티에스 |
| 모델명 | Baron100SP |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-05-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국세라믹기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A400 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 용도 고진공하에서 용융점이 높은 금속 및 세라믹류를 용융/기화 시키기 위한 고 에너지 전자 빔을 발생/제어 하기위한 장비 고속으로 발생하는 전자 빔의 경로조절이 가능하여 실험의 특성에 맞는 복수의 물질을 동시에 가열/용융 가능 전자 빔의 경로를 프로그래밍하여 특정 recipe 확보가능전자빔 방출용량: 최대 100kw (30kV 3.4A) 전자빔 집속 초점거리: 100~1000mm (focus 5mm 이내) -전자빔 발생장치 형태 : 시료 상부에서 입사시킬수 있는 형태(linear type) -냉각방식 : 수냉식 -전자빔 집속 초점거리(출구로부터) : 100~1000mm(focus 5mm이내) -전자빔 방출타입 : Electron bombardment cathode self accelerating type -cathode 수명 : 100000시간 이상 -cathode 형상: 금속 양이온 스퍼터링에 의한 cathode의 형상이 변화하여서는 안됨 -전자빔 편향 각도 :X Y 각각 최대 ±45도 -전자빔 주사기구 : X-Y Scanning frequency는 각각 0~1kHz의 컴퓨터 패턴 구성 스캐닝 모드복수의 물질을 동시에 가열/응용 가능 산화지르코늄 산화이트륨 및 희토류 산화물 적용 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201309/.thumb/20130910113260.jpg |
| 장비위치주소 | 경기 이천시 신둔면 수광리 595-7 한국세라믹기술원 이천분원 시험동 1층 111호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-134562 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0022502 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |