| 기업공감원스톱서비스

스핀코팅 및 현상장치

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	한국광기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명	ㅇ적용가능 기판크기 : 2 3인치 Wafer ㅇWafer Track 구성 - Spin coater : 1 unit - Developer : 1 unit - Robot : dual arm - Hot plate oven : 4 units - Chill plate unit : 2 units ㅇRobot Repeatability : ≤ ± 0.1mm ㅇHot Plate Oven (4 units included HMDS bake unit) - 온도범위 : R.T.～ 200℃ max - 온도정확도 : ±0.3℃(@R.T.～120℃) ±1.0℃ (@120～200℃) ㅇCoat/Develop Unit - Spin 속도 : 6000 rpm - Spin 정확도 : ±1rpm (@ ≥ 2000rpm) - 가속범위 : 0～50000rpm/sec - Dispense nozzle 수 : 2ea - Water centering accuracy : ±0.2mm ㅇ공정능력 - Coating uniformity (in wafer) : range ≤40Å 1.2㎛ thick PR - Develop uniformity : ≤ 5% cross wafer range감광액(Photoresist) 도포 bake 현상 등 일련의 공정을 한 시스템에 할 수 있는 장비
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125141540.jpg
장비위치주소	광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 신기술창업센터 1층 창고
NFEC 등록번호	NFEC-2010-12-126522
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019914
첨부파일

기업조회