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광루미네센스맵핑시스템

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명	ZEUS
장비번호
제작사	Accent optical technologies
모델명	RPM2000
장비사양
취득일자	2003-04-09
취득금액

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	한국광기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명	1. 여기 광원 : 532nm ND:YAG 레이저 325 He-Cd 레이저 2. 검출기 다중채널 CCD 검출기 : 340 ～1050 nm 다중채널 InGaAs 검출기 : ～1700 nm 3. Stage: 2 인치 wafer (3 4인치 wafer 장착 가능) 4. 측정 기능 단일 및 다중 위치 발광 스팩트럼 측정 가능 wafer의 spectral mapping 가능 wafer의 두께 mapping 가능 VCSEL 및 DBR mapping 가능 5. Mapping 면간 분해능: 2 1 0.5 0.2 0.1mm 6. Spectral mapping의 계측 물리량 : 주 발광 파장 분포 주 발광 강도 발광 적분 강도 주 발광 파장의 반치폭 7. 측정온도: 상온 고정 특히 LED LD와 같이 발광을 잘하는 물질의 강도를 파장별로 측정하고 면적단위로 발광지도를 그릴수 있는 장비임- Blue LED를 제조하기 위해 2 인치 웨이퍼 위에 MOCVD로 제조한 에피 박막의 발광 강도를 측정할 수 있고 - 에피 웨이퍼의 발광강도 분포를 측정하여 균일도를 확인할 수 있음
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110121175224.gif
장비위치주소	광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 물성분석실
NFEC 등록번호	NFEC-2010-12-126515
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019910
첨부파일

기업조회