300밀리미터 비저항 측정 장비
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Semilab |
모델명 | SSM 5130 |
장비사양 | |
취득일자 | 2010-10-21 |
취득금액 |
보유기관명 | (주)LG실트론 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | D102 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | Design Rule 3Xnm급 이하에 대한 에피 웨이퍼의 정확한 비저항을 측정하는 장비임. 1) 300mm EPI 비저항 기준 장비. 2) 300mm High Resistivity (≥ 15 Ω-cm) 제품의 측정 신뢰성 확보. 3) 300mm EPI N-Type 제품(CIS用) 개발 대응.1. Repeatability (Total range/Average): ≤ 2.0% 2. 측정 가능 Range 1) Epi resistivity: 0.2~ 1000 Ω-cm 2) Epi thickness: ≥2um 3. 측정 가능 Type: ≤300mm P Type/N TypeResistivity Standard Wafer 제작 후 EPI 계측기간 Correlation 실시하여 측정 신뢰성을 확보함. 1) NIST(National Institute of Standards and Technology) STD Wafer로 비저항 STD Wafer 제작. 2) Polished wafer를 활용하여 4 Point Probe 장비와 와 Hg-CV 장비간 Correlation 실시. 3) EPI wafer를 이용하여 Hg-CV와 SCP간 Correlation 실시. |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201306/.thumb/2013060513131328.jpg |
장비위치주소 | 경상북도 구미시 3공단3로 132-11 (시미동) LG실트론 A동/Epi Line 4층 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2013-06-179870 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0039375 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |