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장비 및 시설 기본정보
화학기상증착장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | ㈜테스 |
| 모델명 | TELIA200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-07-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | - 화학기상증착 - 원리 : 2 mtorr 정도의 저압에서 고밀도의 플라즈마 형성하여 패턴 사이의 채우기에 용의한 산화막 증착- 특징 : 국산 반도체 증착 장비로 기존 외산 증착 장비와 동일한 공정 능력을 가진 막을 증착한다.- 고밀도 플라즈마증착 / 화학기상증착 |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201902/2019021113378271.png |
| 장비위치주소 | 나노종합기술원 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2019-01-253351 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201901245845 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |