기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

SOS1379 기업공감 원스톱서비스

  • HOME
  • 홈페이지 이용안내

장비 및 시설 기본정보

GaN 기상 증착 장비

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 베타
모델명 VPE-H100
장비사양
취득일자 2009-09-17
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국광기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C512
표준분류명
시설장비 설명 설비 외관 검사 결과
- GaN Pilot Supply System은 Main chamber Main control panel Gas cabinet
Wet scrubber Electric panel 등으로 구성되어 있음.
- Main chamber는 chamber 내의 온도를 올릴 수 있는 6개 구역의 Heater부 및
온도 측정을 위한 Thermocouple이 부착되어 있음.
- NH3 공급을 위한 포트
- HCl 공급을 위한 포트
- DCS 공급을 위한 포트
- H2 공급을 위한 포트
- N2 공급을 위한 포트
- Furnace의 Main chamber로 기판 홀더를 이송하는 Loading/Unloadingqn 부착
제어 시스템
- Main chamber 옆에 control panel 부 위치
- Auto & Manual control
- Temperature controller
- Recorder
- PLC Controller
- Current meter Voltage meter Breaker Relay Lamp Button etc.
적용가능 기판크기 : 2인치 Wafer 6장
Reactor 형태 : Vertical Sus chamber
Susceptor : Moly coated graphite
Rotation speed : 10rpm～1500rpm
in-situ 측정 : Real-temp wafer measurement system
MO-source line : TMGa TMAl TMIn
Hydride line : AsH3 PH3
Dopant line : Si2H6 DeZn
Bath for MO source : Over temp. protection (-10～30℃)
안전시스템 : Interlock system
- Power Low gas pressure Pneumatic air pressure
- Low Cool water pressure Over pressure at vacuum
- 유독가스 감지시스템 : H2 AsH3 PH3
장비 구성
(1) Main Chamber
- Heater : 6 zone
- Heat insulator
- Electrode
- SUS 304 water cooling chamber with rack
(2) Control System
- Separate control panel
- Auto / manual Control
- Temperature controller : Programmable digital PID ControllerUtility
1) Purified H2
- max flow: 50 slm 0.3 MPa 1/4" VCR-F
2) Purified N2
- max flow: 100 slm 0.3 MPa 1/4" VCR-F
3) Purified NH3
- max flow: 200 slm 0.3 MPa 1/4" VCR-F
4) CDA (GN2) for Pneumatics
- max flow: 50 slm 0.4 MPa 1/4" Swagelok-F
5) PCW
- Fitting; 25A (In/Out)
- Supply pressure; 0.3 MPa
- Supply temperature; In : ≤ 20℃ Out : ≤ 30℃
6) Exhaust specifications
- Wet Scrubber
- Process(quartz chamber) exhaust line; NW40
7) Gas cabinet
- HCl 47L cylinder
- DCS 47L cylinder
8) Bake Furnace 전원
- 동작전압 : 3Φ380V 200A
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110124161432.jpg
장비위치주소 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 본부동 1층 신기술사업센터 창고
NFEC 등록번호 NFEC-2011-01-136236
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0023452
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)
목록