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이온 소스 알에프 스퍼터

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보유기관명	한국생산기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C506
표준분류명
시설장비 설명	본 장비는 플라즈마 내의 이온을 추출하여 원하는 물질 방향으로 가속이 일어나도록 만드는 것 즉, 스퍼터링 현상을 이용하여 기판 위에 금속(Ag,Al,Ni), 반도체(Si) 유전체(Al2O3, SiO2.)등의 물질을 박막 형태로 증착할 수 있는 설비로서, on-axis 다이오드 스퍼터링 공정과 이온빔 스퍼터링 공정이 가능한 장비로 이온빔의 가속 에너지 영역이 기판 표면을 개질하거나 물체의 표면 원자를 스퍼터링하는 일을 수행할 수 있으며,이온빔 소스는 장시간 공정에 안정적으로 구동가능하며 156 mm x 156 mm 기판 3 장을 동시에 장착할 수 있어야 하고, 필요에 따라 이온빔 소스를 적용한 in-situ 기판 표면의 청정 및 표면 개질을 할수 있는 특징이 있다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201412/20141222164242213.jpg
장비위치주소	한국교통대학교 공동실험관
NFEC 등록번호	NFEC-2015-01-195355
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kitech-00185
첨부파일

기업조회