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장비 및 시설 기본정보
저압화학기상 증착장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 리드엔지니어링 |
| 모델명 | 개발장비 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-09-23 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C500 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | LPCVD장비는 저압전기로를 통해 doped-poly silicon막을 형성시킬 수 있는 장비입니다. 사용가스로는 실레인과 포스핀을 이용하고, 실레인은 실리콘은 기반을, 포스핀으로는 도핑의 정도를 조절할 수 있습니다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201601/20160125143154777.jpg |
| 장비위치주소 | 첨단방사선연구소 방사선기기연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-01-207406 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0060424 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |