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장비 및 시설 기본정보
진공증착기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 넥센코리아 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-11-20 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국화학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B0 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 기능 - Sputtering 장치는 현재 산업체에서 가장 보편적으로 이용되고 있는 박막제조 장치이며 일반 Evaporation에 비해 강한 부착력을 가지며 절연체 고응점 물질 합금 또는 화합물까지도 성분 구성비 변화 없이 비교적 쉽게 박막을 얻을 수 있어 박막의 연구 생산을 위한 목적에 적합하다. 목적에 따라 DC 또는 RF Sputtering선택이 용이하며 DC Bias와 RF Bias의 응용도 가능하다. 또한 여러 개의 Target을 동시에 Sputtering할 수 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201102/20110215174117.jpg |
| 장비위치주소 | 한국화학연구원 5연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-02-141672 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0026945 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |