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장비 및 시설 기본정보
표면형상분석기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Kla-tencor |
| 모델명 | P-7 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-07-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전기연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | F800 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 반도체 wafer상태에서 표면 형상 및 wafer 휨 특성을 측정하는 초정밀 반도체용 측정 장비이다. 또한 고온 고에너지 이온주입 전후 wafer 변형 확인 및 dry etching 공정 중 hardmask의 두께 및 단차 등의 미세 형상 측정을 할 수 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201608/20160825164237310.jpg |
| 장비위치주소 | 한국전기연구원 전력반도체연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-08-211502 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0061985 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |