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장비 및 시설 기본정보
급속열처리시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 뉴영시스템 |
| 모델명 | RTA-150H SP1 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-10-17 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 1. Rapid thermal processing refers to a semiconductor manufacturing process which heats silicon wafers to high temperatures (up to 1100℃) on a timesscale of several seconds. 2. Such rapid heating rates are often attained by high intensity lamps. 3. These processes are used for a wide variety of applications in semiconductor manufacturing including dopant activation thermal oxidation and metal alloy. |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160919181959_20130108000000159211 NFEC-2013-02-176068.jpg |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-176068 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171072 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |