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장비 및 시설 기본정보
그래핀/h-BN 합성용 PECVD-PVD 클러스터 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아텍시스템 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-12-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - Graphene 과 h-BN 을 합성하는 데 필요한 PVD (Sputter, E-Beam Evaporation) 와 PECVD 장비 등 다양한 장비들이 하나의 chamber 로 연결되어 있는 최첨단 장비로 그래핀 관련 세계 선도적 연구 가능 장비임. - PVD 장비의 Catalyst 증착 단계부터 저온 공정이 가능한 PECVD 의 그래핀 및 h-BN 합성 단계까지 쉽고 빠르며 정확한 공정이 가능함. - 고품질의 Graphene 과 h-BN 을 합성하기 위하여 다양한 금속 박막의 적용 연구가 필수적이며, Graphene 과 h-BN 을 이용한 높은 효율의 하이브리드 3차원 소자 제작 등이 가능한 전자 재료 합성 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201504/201504218331957.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 전북분원 연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-04-201758 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0055757 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |