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장비 및 시설 기본정보
반응성 이온 식각장비 RIE( (reactive ion etching) PlasmaPro 800 Plus
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Oxford Instruments |
| 모델명 | PlasmaPro 800Plus |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-12-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 건식 식각(Dry etching) 장비로서 주입되는 가스를 RF power를 이용하여 ion 전자로 분리, 식각 하고자 하는 물질을 원하는 만큼 식각하는 장비임. 건식식각 장비의 정밀도가 MEMS 소자제작에 미치는 영향을 조사하기 위한 연구 장비임. 실리콘 혹은 산화물과 화학적으로 반응하면서 플라즈마 기체의 물리적 식각을 동시에 이용하는 장비로서 식각율이 일정하면서도 많은 공정 조건을 선택하는 것이 가능하므로 본 연구의 목적에 적합함.본 장비는 건식 식각(Dry etching) 장비로서 주입되는 가스를 RF power를 이용하여 ion 전자로 분리, 식각 하고자 하는 물질을 원하는 만큼 식각하는 장비임. 건식식각 장비의 정밀도가 MEMS 소자제작에 미치는 영향을 조사하기 위한 연구 장비임. 실리콘 혹은 산화물과 화학적으로 반응하면서 플라즈마 기체의 물리적 식각을 동시에 이용하는 장비로서 식각율이 일정하면서도 많은 공정 조건을 선택하는 것이 가능하므로 본 연구의 목적에 적합함. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201504/20150423214154269.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 청정연구동(L6) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-04-201794 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0056024 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |