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확산용 전기로

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보유기관명	한국과학기술원 전기및전자공학과
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	D100
표준분류명	분석
시설장비 설명	Diffusion 시스템은 산화공정 이나 dopant 도포등에 쓰이지만 일반적으로 후자 쪽이 많이 쓰인다. 초창기 반도체 제조에서는 diffusion 시스템은 실리콘 표면에 불순물 원자나 dopant를 도포하는데 주로 쓰였다. 근래에는 이온주입(Ion Implantation)이 dopant를 도포하는데 주로 쓰이고 있지만 diffusion 시스템은 아직까지 특정 부분에 쓰이고 있다. Diffusion furnace로도 알려진 일반적인 diffusion 장치는 산화공정 furnace와 매우 유사하다. 이 장치는 웨이퍼에 고온 상태를 유지하고 가스 흐름을 제어하기 위해 디자인 되었다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201407/20140708165232901.jpg
장비위치주소	한국과학기술원 미래융합소자동
NFEC 등록번호	NFEC-2014-07-189894
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KAIST_EE-00014
첨부파일

기업조회