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장비 및 시설 기본정보
건식 에칭 및 스퍼터 챔버
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 다다 |
| 모델명 | ION milling system |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-07-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 물질의 표면을 cleaning 하거나 깍는 역할을 하는 chamber 입니다. 진공상태에서 소스를 이용하여 sputter를 할 수 있습니다. Ar gas를 mfc controller를 통해서 주입하고 텅스텐 전자에 의해 아르곤 이온을 생성합니다. 생성된 아르곤 이온이 가속되어 물질의 표면을 때리게 되는 방식입니다. 물리적인 타격을 통해 샘플의 표면을 깍는 방식으로 매우 느린 속도로 샘플을 균일하게 깍을 수 있습니다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201407/20140715142720877.JPG |
| 장비위치주소 | 한국과학기술원 KI빌딩 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-07-190154 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0040872 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |