| 보유기관명 |
한국생산기술연구원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C209 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
ㅇ 원리 및 특징 AIP 코팅 장비는 챔버 내에는 코팅하고자하는 타겟 전자를 끌어당기는 Anode DC bias 전압(-전압)이 걸린 기판(substrate)과 반응가스주입구(N2 gas)로 구성되어 있다. 타겟은 동일한 것을 복수로 설치하고 각각의 타겟에 아크를 발생시켜 플라즈마를 형성시킨 후 전자는 Anode에서 흡수하고 코팅하고자하는 금속이온을 -전하가 걸려있는 기판의 모재위로 끌어당겨서 코팅한다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201109/20110901101059.jpg |
| 장비위치주소 |
한국생산기술연구원 광에너지동 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2009-12-077602 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kitech-00480 |
| 첨부파일 |
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