| 시설장비 설명 |
세부과제명:계측기기 기술기반 조성사업 과제책임자:백종승 과제수행연도:2000 실리콘 이나 석영 웨이퍼 등의 초기 세척이나 금속 박막층의 제거, 유전체 박막의 제거 세정 등에 수용액의 세정액이나 부식액 등을 사용한다. wet station은 이러한 수용액으로 세정, 식각, 린스하는 공정을 하는 장비이다. 용액을 담을 수 있는 용기(bath)가 용도에 따라 설정되고 용액을 일정온도로 유지시키기 위한 열원부와 조절부가 장치되어 있다. wet station은 SC-1 bath(웨이퍼 세정용), SC-2, HF bath와 QDR(Quick drain rinse) bath 등으로 이루어져 있고 석영과 테프론 재질로 용기가 되어있고 질소가스 버블, 초순수물(DI water)이 공급되도록 되어 있으며 반자동으로 세정,식각 공정을 할 수있고 공정이 끝난 후quick drain 으로 린스가 가능하다. 각 bath의 크기는 6인치 웨이퍼 25장(1 카트리지) 이 들어가는 크기 이며 폐액은 최종 사용 후 폐수저장조에 저장 후 처리한다. |
