기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

장비 및 시설 기본정보

고주파 측정 시스템

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 Trumpf
모델명 모델명 없음
장비사양
취득일자 2010-03-31
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국세라믹기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C210
표준분류명
시설장비 설명 - 플라즈마 토치와 파워발진장치간 전력전달 및 임피던스 매칭 장치
고순도 함성석영유리 제조를 위한 청정 에너지원인 플라즈마 장치를 이용하기 위한장치의 한 부분.
플라즈마 에너지를 이용하므로 수소 등의 폭발위험성의 가스의 사용을 억제하므로
합성석영유리 내 수분 함량을 완전 제거함으로서 최종 Product를 6N이상의 초 고순도화 구현가능Tank circuit
- 4*250 pF
- High Voltage co-axial supply
- Bus bar ground return
Faraday cage
- Designed for plasma torch
- Torch connectors
- Removable doors
- Interlock on door
- Peep hole
Electrical Switch
- Located inside RF generator
- Pneumatic activation position detector파워 발진 장치와 플라즈마 토치 간 전원 전달 및 장비 간 임피던스 메칭
플라즈마 토치 주변 발생 자장 제어
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110216155616.jpg
장비위치주소 경기 이천시 신둔면 수광리 595-7 한국세라믹기술원 이천분원 시험동 2층 201호
NFEC 등록번호 NFEC-2011-02-142091
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0027301
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)