고주파 측정 시스템
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Trumpf |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2010-03-31 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국세라믹기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C210 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | - 플라즈마 토치와 파워발진장치간 전력전달 및 임피던스 매칭 장치 고순도 함성석영유리 제조를 위한 청정 에너지원인 플라즈마 장치를 이용하기 위한장치의 한 부분. 플라즈마 에너지를 이용하므로 수소 등의 폭발위험성의 가스의 사용을 억제하므로 합성석영유리 내 수분 함량을 완전 제거함으로서 최종 Product를 6N이상의 초 고순도화 구현가능Tank circuit - 4*250 pF - High Voltage co-axial supply - Bus bar ground return Faraday cage - Designed for plasma torch - Torch connectors - Removable doors - Interlock on door - Peep hole Electrical Switch - Located inside RF generator - Pneumatic activation position detector파워 발진 장치와 플라즈마 토치 간 전원 전달 및 장비 간 임피던스 메칭 플라즈마 토치 주변 발생 자장 제어 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110216155616.jpg |
장비위치주소 | 경기 이천시 신둔면 수광리 595-7 한국세라믹기술원 이천분원 시험동 2층 201호 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2011-02-142091 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0027301 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |