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전력용 반도체 소자 제작용 마스크 얼라이너

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보유기관명	한국전기연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C501
표준분류명
시설장비 설명	SiC 전력반도체 소자 제작을 위해 align key 패턴 형성부터, 전극용 패턴 형성까지 전 공정단계에 활용하며, 반도체 소자 제작 공정에서 가장 빈번하게 사용되는 장비이다. 마스크 얼라이너는 아래 그림과 같이 포토마스트를 사용하여 반도체 웨이퍼 상에 패턴을 전사하는데 활용된다. 반도체 소자 채널 폭의 정밀한 제어, 금속 패턴의 정밀한 제작에 사용하며, 특히 높은 항복전압 특성 구현을 위한 마무리 구조 제작에 활용된다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201604/20160421155421911.png
장비위치주소	한국전기연구원 17연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2016-04-209296
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0059812
첨부파일

기업조회