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장비 및 시설 기본정보
전자빔 패턴 장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | TESCAN, sro |
| 모델명 | MIRA II |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-10-23 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국화학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 특징 전자현미경에서 발생하는 전자빔을 폴리머 레진에 주사하여 폴리머를 가교시키거나 혹은 녹을 수 있는 구조로 변형시켜 패턴을 형성하는 장치. 포토리소그라피 등에 비해 우수한 분해능 (~20 nm) 을 가져 나노 크기의 패턴형성에 적합함 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201102/20110207140126.jpg |
| 장비위치주소 | 한국화학연구원 11연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-01-139673 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KRICT_PA-00192 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |