| 보유기관명 |
울산과학기술원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C501 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
- 감광막(Photo Reisst)이 도포된 Si등의 Substrate에 마스크(CrFilm등)를 통해 노광(사용 영역대의 파장 : 365nm 405nm436nm)을 함으로써 마스크의 패턴을 기판 위에 1:1전사하여 감광막의 화학적 반응을 일으켜 구조를 형성시키는 장치이다. 이 때 여러 장의 마스크를 이용한 Multi-layer chip제작을 위하여 Align matching system이 적용되었다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201209/20120927103452.jpg |
| 장비위치주소 |
울산과학기술대학교 자연과학관 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2012-09-172230 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0035106 |
| 첨부파일 |
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