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장비 및 시설 기본정보
전자빔 리소그래피 주사전자현미경
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | TESCAN, sro |
| 모델명 | VEGA3 LMH / ELPHY Quantum Lithography System |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-09-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 주사전자현미경에 Beam Blanker를 장착하고, E-Beam Drawing Software를 통해 Beam Blanker를 제어하여 Wafer 표면에 고정밀도의 나노패터닝을 하는 장비 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201509/20150922113534765.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술원 자연과학동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-09-204979 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0058640 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |