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장비 및 시설 기본정보
저압기상화학박막증착장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 케이에스엠 |
| 모델명 | KVL206 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-11-19 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 반도체 MEMS 재료분야 및 연구영역에서 요구하는 다양한 절연막을 화학기상증착방식을 이용하여 성장할 수 있다. 여러 연구 분야의 device 제작 진행시 Low pressure CVD 프로세스를 이용하여 substate의 손상이 발생하지 않도록 low stress를 갖는 N type이 도핑된 Si Poly-Si Nitride layer 등의 증착이 가능한 장비이다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201401/201401201139582.JPG |
| 장비위치주소 | 울산과학기술대학교 자연과학관 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-01-185246 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0041365 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |