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장비 및 시설 기본정보

박막소재 열처리시험장치

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 아전가열산업
모델명 모델명 없음
장비사양
취득일자 2013-05-20
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국생산기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C601
표준분류명
시설장비 설명 1) Se 공급 열처리 장치 (Se two zone RTP) 일반사양 내부규격 : 720∮ * 230L mm + 62∮ * 300Lmm 입력전원 : 220V단상 용 량 : 26KW 사용온도 : 1000℃ - RAMP SPEED : 1200℃ /2min - 온도정확성: ±1℃@ 1000℃ Gas : Ar N₂ 발 열 체 : IR 히터 -1ZONE 칸탈(KANTHAL A-1 C.F.B) HEATER - 2ZONE (Se source 증발용 그라파이트(graphite) 제작) 온도제어 : 프로그램 PID 컨트롤러 온도 균일도 : 5% 이내 2)2S 공급 열처리 장치 (H2S RTP) 일반사양 내부규격 : 62∮ * 230L mm 입력전원 : 220V단상 용 량 : 22KW 사용온도 : 1000℃ RAMP SPEED : 1200℃ /2min 온도정확성: ±1℃@ 1000℃ Gas : H2S Ar N₂ 발 열 체 : IR HEATER 온도제어 : PROGRAM PID CONTROLLER 온도 균일도 : 5% 이내 3) mr N2 공급 열처리 장치 (Ar N2 RTP) 일반사양 내부규격 : 62∮ * 230L mm 입력전원 : 220V단상 용 량 : 22KW 사용온도 : 1000℃ RAMP SPEED : 1200℃ /2min TEMP ACCURACY: ±1℃ AT 1000℃ Gas : Ar N₂ 발 열 체 : IR HEATER 온도제어 : PROGRAM PID CONTROLLER 온도 균일도 : 5% 이내
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201310/20131008105050355.JPG
장비위치주소 태양전지 R&D센터 광에너지융합연구그룹
NFEC 등록번호 NFEC-2013-10-183380
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kitech-00287
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)