- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
급속열처리장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Mattson |
| 모델명 | AST2800 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-08-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ○ 본 장비는 반도체 소자, MEMS, 센서 제작공정 중 이온주입 후(Post ion implantation) 이온주입손상 어닐, 불순물 활성화를 위해 적정한 열에너지 소스에서 나오는 복사 광선(Infrared radiation)을 이용하여 100℃/sec정도의 급속열처리를 할 수 있는 기본적인 반도체 공정장비임. ○ 급속 열처리 공정의 또다른 응용분야는 단결정과 다결정 실리콘의 불순물 주입 후의 anneal, 단결정과 다결정 실리콘의 oxidation, silicide의 형성과 anneal, PSG와 BPSG층의 reflow 및 contact형성 등의 거의 모든 열처리 과정에 사용될 수 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201610/2016100718559437.png |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-10-212155 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0062318 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |