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장비 및 시설 기본정보

레이저 식각기

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 RPMC Lasers
모델명 ML20-PL-R-OEM
장비사양
취득일자 2009-08-19
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C510
표준분류명
시설장비 설명 특징
매질과 출력 단자로 광섬유를 사용하여 초고출력 레이저를 생성하여 물질에 음각 식각이 되는 원리
주로 태양전지의 TCO 기판 (ITO FTO 기판 등등)을 절연할 때 사용합니다. 레이져 파장 1024 nm를 사용하며 레이져의 초점 및 속도 조절이 가능하고 램프가 움직이며 공정 진행하는 방식이기 때문에 최대 1초당 1000 mm 속도로 공정 속도가 매우 빠르고 소음 발생이 적습니다.구성 및 성능
Fiber Laser System활용분야
태양전지 제작에서 광활성층의 면적을 정의하기 위하여 나머지 부분의 Transparent Conducting Oxide를 식각하여 제거함.
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201112/.thumb/20111201133616.jpg
장비위치주소 서울 성북구 하월곡동 39-1 한국과학기술연구원 L7 4층 7416
NFEC 등록번호 NFEC-2009-09-072215
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0013792
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)